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任正非也没想到 一切来的太快 突破太多 ASML和台积电即将被取代

时间:2018-12-13 21:37:42

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任正非也没想到  一切来的太快  突破太多  ASML和台积电即将被取代

众所周知,厄住咽喉的就2家公司,一家是ASML,一家是,台积电的替代者有中芯国际,后者在7nm进步神速年底量产。这些年来,在台积电的光环下成长,中芯国际特别低调,如今国产科技产业链被提上议程,中芯国际也在梁孟松的带领下狂奔,14nm不到一年就从3%的良率提高至95%,如今有了华为这个强大的资源体系,不仅获得了华为的技术帮助,还被国家注资150多亿元,现在又回到A股上市,募资200多亿用于规模量产和研发,可以说中芯的进步是有目共睹的,也承担着重大的使命,毕竟大陆的代工企业排在全球第三,这值得骄傲,所以最近的动作具有很大战略意义。

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而ASML全球垄断80%的市场,与之对应的国产,上海微电子垄断国内80%的市场,已经量产交付的是90nm,预计在今年12月,将可能下降首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/10W光刻机,这个进度也已经很快了。本以为限制住了EUV光刻机和台积电,华为寸步难行,没想到目的没达到,还倒逼出了发展迅猛的国产芯片生产链。

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荷兰的ASML公司和台积电的确是华为的两大“命脉”,不过现在情况明显有了变化。已能为华为量产麒麟710A,且N+1、N+2工艺已无限逼近台积电7nm水准的中芯国际显然已能逐渐取代台积电。同时中芯国际的N+1和N+2工艺甚至一定程度上可以做到仅用DUV光刻机达到EUV光刻机的标准。

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占据2400项发明专利的上海微电子也宣布,年底将下降首台采用ArF光源的可生产11nm的SSA800/10W光刻机。这样看来,要不了多久,华为的两大“命脉”都能有国产替身。而最让星条国焦虑的是,非M系生产线正在逐步建立:中微的蚀刻机突破5nm;南大光电的ARF光刻胶突破7nm;华为和意法半导体共同研发的EDA芯片设计软件即将通过7nm验证;华虹半导体也将量产14nm;比亚迪、中芯国际已具备完整的芯片生产链,现在看来华为和国内半导体企业的好日子就要来了。

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更大的好消息是,南大光电ARF光刻胶已经可以用于7nm,中微半导体的5nm蚀刻机已经处于世界领先地位。同时华为等国内企业被限制使用芯片设计软件EDA,现在华为和意法半导体共同研发芯片,EDA已经进行7nm验证。可以说华为乃至中国科技企业的艰难日子不多了,现在只不过是黎明前的黑暗,光明终究会到来。

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