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linux下版图设计 版图课程设计报告

时间:2021-03-19 11:14:41

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linux下版图设计 版图课程设计报告

实验名称:两级运算放大器的版图设计

实验目的:1、掌握模拟CMOS集成电路的设计方法

2、掌握模拟集成电路的设计技巧

3、掌握数字电路的基本单元CMOS的版图,并利用CMOS的版图设计电路,然后对其进行基本的DRC检查;

实验要求:1、设计对象为单端输入的两级运算放大器电路,其性能为:

(1)负载电容Cl=15pf,负载电阻Rl=100kΩ,

(2)电源Vdd=5v

(3)增益带宽积GBw>40hz

(4)增益Avo>80db;

(5)相位裕度Pm>65;

(6)输入摆幅大于3v,输出摆幅尽量大

2、查阅相关资料,学习模拟集成电路版图设计技巧

3、完成两级运算放大器的版图设计,注意版图的对称性和隔离的设计,完成版图DRC检查

4、要求设计的版图满足电路的功耗,性能、功能、面积、合理、美观

实验步骤:1、观察模型文件(.scs)文件,或通过对Mos管的简单电路的DC分析并检查Mos管的直流工作点参数,得到Pmos、Nmos的基本工艺参数(Tox、Cox、Vthn、Vtnp等)

2、确定具体的设计方案

3、在Schematic中画电路图

4、开始设计电路的版图

5、修改版图、使之通过DRC检查

6、优化版图、是面积合理,美观

器件介绍:

Mos管 L/um

W/um

M

TotalW/um

M1,M2 0.610

4

40

M3,M4 1.8

8

8

64

M5,M6 0.8

7

4

64

M7,M8 0.8

7

4

28

M9 1.2

16

4

64

M10,M111.5

8

8

64

M121.2

16

56

64

M13 0.6

10

40

64

设计方案:设计目标:二级运算放大器版图

版图设计步骤:确定要画版图的工艺方案→确定工艺路线及条件→确定版次→确定设计规则→设计版图

设计内容:布局:安排各个晶体管,基本单元,复杂单元在芯片上的位置(nmos、pmos、电容、电阻)

布线:设计走线,实现管间,门间,单元间的互连

尺寸确定:确定晶体管尺寸(L、W)互连尺寸(连线宽度)以及晶体管和互连之间的相对尺寸等。(根据老师给出的尺寸直接设计)

版图编辑:规定各个工艺层上的图形形状、尺寸和位置

布局布线:给出二级运算放大器版图版图的整体规划和各图形间的连线

设计版图尽量满足电路功能,性能指标,质量要求;尽可能减少面积,以提高集成度,降低成本;尽可能缩短连线,以减少复杂度,缩短延时,改善可靠性。

设计步骤和各模块组成:

1.在linx系统下新建文件夹,即:

打开终端→输入命令“mkdir文件夹名”。

2.打开你的文件夹并打开画图界面,即:

输入命令cd文件名→“pdt”→新建工程(newlibrary→在文件夹中找到techloge文件并选中)→newcell(输入cell名)。

3.按照一定的规则画版图。

4.做验证。

在Verify选项中做验证,并根据提示改正错误。

5.画电路图

画好版图后,在端口中输入命令“zse”,进入画电路的界面,画好电路图,做验证无误后,在check→output→CDL中,产生你命名的网表。

6.做lvs验证

找到对应的lvs文件,在端口中输入命令“ldc–iinv.lvs”,

按下面的要求修改:

Primary…………你命名的cell名

library…………你命名的library名

SCH-NETLIST…………你命名的CLD文件名

SCH-Primary…………你命名的电路单元名

然后,点run。

若有错,修改版图,再重复以上的步骤直到没有错误为止。

电路原理图:

版图:

实习心得:

这次课程设计是画版图,其实跟以前的都差不多,挺熟悉的,虽然老师给的原理图很复杂,让人感觉一头雾水,心里没个底,但经过大家共同的努力,分析最终还是完整的画了出来,这次我们是三人一组完成任务的,既然是合作,自然就要分工,我和XX,王XX是一组,实际上,刚开始,我们三个都在画,每人都有自己的一份版图,但最终结果使用的张蕾画的给老师验收。

从这次的设计中我还学到了许多知识,深入学习了多级运算放大器的设计流程,更加熟练地掌握了软件的使用,画图的时候,一直出错,不停地得找人帮忙,不懂得还得看眼色让别人给你讲解,但当你真正把那些知识点弄懂以后,你就会明白有理论知识是远远不够的,只有把所学的理论知识与实践相结合,从理论中得到结论,才能真正为社会服务,从而提高自己的动手能力和思考能力。

首先,对linux操作系统我有了新的认识与了解,从一开始的一知半解,到最后我能够很熟练地运用linux系统下的软件进行版图设计与电路图设计以及相应的功能验证。其次,在版图设计过程中,最容易犯最小特征尺寸过小的错误,我在版图设计中由于设计的通孔和金属之间的距离没有超过0.3微米而报错,后来经过反复的思考与检查,终于使特征尺寸错误得以解决。版图设计是一个需要细心与耐心的操作过程,在设计过程中必须注意这一点。

两级运算放大器的版图是我头一次接触,它不是由几个PMOS、NMOS的简单组合而成的,有电容有电阻,也要考虑到许多的版图布局和线条布局,画的时候一定要遵守其中的版图设计规则,不光要做到细心认真,布局布线要完整,也要考虑到实际问题,尽量减少材料的使用,能共用的一定共用,在画PMOS、NMOS的版图时实际上也是让我自己再进一步熟悉复杂的CMOS版图设计,没有什么东西是谁天生就会的,不管是查资料还是请教老师或同学,都是给自己增加知识的一种有效途径。

短短的三天时间给了我无限的锻炼和挑战,有时候画到晚上九点多,有时候感觉别人都已经厌烦到不愿意再给我说了,但我还是坚持了下来,在这中间,我看到了自己的不足,看到了温故而知新的重要性。就比如说修改版图时,明明以前画的时候好多地方出错的原因已经搞明白,但长时间不复习,这次又忘了,在版图绘制中我们要一边绘制,一边用DRC模块检测错误,避免把所有的图绘制完了才来检测,那样就很难检查错误。

画版图需要极大的耐心和细心。最主要的是心态保持平和轻松,切忌烦躁。即使时间紧迫,也不能抱着得过且过的心态,一定要尽量做到最优。

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