众所周知，在全球芯片制造领域，也都无法离开荷兰ASML（阿斯麦）公司，这家公司几乎垄断着全球光刻机市场，尤其是在高端EUV光刻机市场，而根据ASML官方所发公布的数据，在更是创下了26台 出货量新纪录，预计在将会对外交付35台EUV光刻机设备，而在更是交付高达50台EUV光刻机，如此可见即便是售价不菲，但ASML光刻机设备依旧非常的抢手；而根据外媒最新报道，ASML公司目前正在研发全新一代EUV光刻机设备，预计在开始出货；
而目前ASML主要对外销售的光刻机设备为NXE:3400C，全新的模块化设计，也是让光刻机设备更加便于维护和维修，同时也支持7nm、5nm芯片工艺制程，而根据ASML此前所披露信息来看，目前也正在研发全新一代EUV光刻机设备EXE:5000系列，全新一代EUV光刻机设备的主要合作伙伴依旧还是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心，而这次全新研发的EXE:5000系列EUV光刻机，分辨率更是直接提升了70%，意味着ASML这次所研发的EUV光刻机设备将会直接瞄准2nm，甚至是极限1nm芯片制程工艺。
看到这里或许很多小伙伴们也是纷纷感叹，荷兰ASML公司在光刻机设备方面的技术实力确实也是让人钦佩，要知道目前我国目前自主研发的光刻机设备，能够实现大规模商用的芯片工艺最高也只能够达到90nm，当然我国的设备厂商，例如上海微电子、中电科四十五所、中电科四十八所等。也已经在65nm、28nm光刻机设备研发中取得了一定的进展，目前光刻机核心子系统双工件台系统样机研发项目通过内部验收，可以相信，在未来，我们国内的光刻机产业很快就能够给我们带来更大的惊喜，在这个全球市场化资源配置的大环境中，从理论上看，ASML光刻机设备虽好，只可惜这个世界上有太多无法被决定的东西，例如：“禁运、技术封锁”等等，所以对于我国的芯片产业的未来发展，自主研发光刻机设备同样也没有什么捷径可以走，只期待我国的光刻机设备精度能够一步步得到提升。
写在最后：当然目前对于ASML最新一代的EUV光刻机设备，至少还要等到才能够出货，全新的芯片工艺也将会直接提升芯片性能、降低芯片功耗、发热等等，为广大用户带来个更为极致体验；对此，各位小伙伴们，你们是否期待全新的2nm甚至是1nm芯片时代的到来呢？
