环球科技视界02-28 17:20优质原创作者
现如今，各大芯片厂商也都在不断追求制程工艺更加先进的芯片，毕竟制程工艺数字越小，芯片的性能就更加强大，不过更先进的芯片制程工艺的研发也面临着很大的难度。老牌巨头Intel这几年就迟迟停留在14nm阶段，如今刚刚向10nm制程工艺阶段过度。不过，话又说回来，芯片研发的过程即使再困难，还是要挺过难关。
要知道现在全球市场环境有些动荡，很有可能会出现“卡脖子”的情况，届时对于各大厂商而言很有可能会造成致命一击。近两年来，芯片自主研发也是我国科技领域的一大热点，目前大多数人都将实现芯片国产化道路的希望寄托在中芯国际身上。眼看着今年台积电和三星就要实现5nm制程工艺的量产，中芯国际也得加油继续追赶，早日补足差距。
去年年底，中芯国际宣布已经实现了14nm制程工艺量产，并且为中芯国际带来了1%的营收，达到769万美元，而目前中芯国际14nm制程工艺芯片虽然不能和台积电三星的5nm制程工艺芯片相比，但是也能够满足国内95%的芯片需求。
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据悉，14nm制程工艺芯片以及改进型的12nm制程工艺芯片是中芯国际第一代FinFET工艺，目前中芯国际还在研发更加先进的N+1括N+2FinFET工艺，中芯国际联席CEO梁孟松表示，和14nm相比，N+1性能提升20%，功耗降低57%，逻辑面积缩小63%，SoC面积减少55%，整体表现还是很不错的。N+1之后，中芯国际还会推出N+2工艺，两种工艺在功耗方面的表现相差不大。
不过，目前中芯国际还面临着一大难题，而光刻机技术长时间以来都掌握在国际大厂手中，目前ASML光刻机无法进入国内市场，导致很多更加先进的芯片无法进行生产，而中芯国际表示N+1和N+2代工艺不会使用EUV工艺，未来等到设备就绪后，可能N+2工艺的几层光罩会采用EUV工艺，然后逐步大规模地开始转向EUV光刻工艺。
值得关注的是，有消息称目前中芯国际N+1 FinFET工艺已经开始导入客户了，今年Q4将进行小规模生产，如果此消息是真的，那么中芯国际的芯片进展速度要比预想中来的快、与此同时，中芯国际今年还将支出31亿美元为芯片生产做出投资，其中大部分资金将拿来建设的
总而言之，目前中芯国际的实力正在逐步增长，未来随着掌握的的核心技术越来越多，相信中芯国际能够带领中国的科技产业实现芯片国产化的道路。
