【5月24日讯】相信大家都知道，近日美国方面又再次对华为升级了“芯片禁令”，不仅仅全面限制华为使用美国相关的技术和设备来设计、生产芯片，同时也对华为相关的供应链合作伙，做出了全新的“限制要求”，在全球范围内，无论是中芯国际，还是台积电、三星等等，只要有使用到美国相关的技术和设备，如果想要为华为提供代工生产芯片的服务需求，那么就必须要向美国商务部提交相关申请，在获得了“通行证”以后，才能够继续为华为提供芯片代工服务，但由于国内整体芯片制造工艺相对较为落后，目前中芯国际也只能够量产14nm芯片，而无法生产7nm甚至是5nm细腻盘，很大程度上也是因为在芯片制造过程中，缺少了非常关键的设备—EUV光刻机；
作为芯片制造领域非常重要的设备，目前最先进国产光刻机虽然已经能够量产28nm芯片，但距离ASML的EUV光刻机也是有着很大的水平差距，目前ASML的EUV光刻机已经能够生产5nm芯片；虽然此前中芯国际就曾向ASML订购了一台EUV光刻机，但实际上想要得到这款EUV光刻机并不容易，尤其是在最近一段时间，不仅仅华为芯片禁令事件再次升级，同时美国在近日，又再次宣布对我国的高新科技企业、高校等，列入到实体清单之中。
毫无疑问，我们现在就要彻底的抛弃“幻想”，努力地提高国内芯片制造的整体工艺水准，对此有很多网友认为：“我们就缺一台EUV光刻机，只要ASML的EUV光刻机到位了，那么我们也一样能够生产高尖端芯片，只要光刻机搞定了，就再也不怕“断供”了”；但实际上，很多网友确实也是有些小看了整个芯片制造难度；
即便是有了EUV光刻机加持，但实际上在整个芯片制造过程中，使用光刻机的工时只占到了整个芯片制造过程中占到了30%-40%左右，同时生产高端芯片也需要技术支持，就拿国内中芯国际和华虹半导体相对比，他们几乎拥有一样的光刻机设备，但中芯国际目前已经能够量产14nm芯片，反观华虹半导体依旧只能够生产出28nm芯片，所以没有掌握相关的高端芯片制造技术，即便是拥有最好的EUV光刻机设备，依旧无法生产出最高端的芯片来，要知道整个芯片产业包含了半导体设备、半导体原材料、芯片设计、制造、封测等等，只要缺少任何一项，也就无法生产最最先进的芯片，尤其是在半导体材料方面，美国科技巨头也是具有很强的行业话语权，所以就在华为遭受到新一轮“芯片”断供危机后；
对此，外媒也更是直接放出狠话，就算是给中国芯片厂商最好的光刻机，中芯国际也无法造出最新、最顶尖的芯片，因为整个国产芯片产业崛起依旧需要很长一段时间，仅靠一台EUV光刻机，确实也是无法解决现有真实问题。
最后：小编也是希望国产芯片能够加强“补课”，彻底地让整个国产芯片产业链崛起，才能够真正做到不怕被“卡脖子”；所以，国产芯还是继续加油！各位小伙伴们，你们对此都有什么样的看法和意见呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！
