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浙大计算机设计学 浙江大学计算机辅助设计及图形学国家重点实验室.pdf

时间:2021-04-09 14:07:42

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浙大计算机设计学 浙江大学计算机辅助设计及图形学国家重点实验室.pdf

前 言

石教英

浙江大学计算机辅助设计与图形学国家重点实验室

浙江大学计算机学院

jyshi@cad.

近年来,随着计算机图形软硬件技术日益进步和应用需求不断增长,计算机

图形学研究和应用呈现出以下几个特点:

(1)模型复杂度急剧增大。随着三维扫描、计算机辅助设计和科学仿真等

技术的提高,几何建模变得更加方便,模型的几何复杂度也越来越大,包含上千

万甚至数十亿几何图元的模型变得十分普遍。这些模型数据精度高,能保留原始

模型的细节特征,对机械制造、生命科学、军事仿真、建筑规划、文物保护、影

视游戏等诸多领域具有重要价值。

(2)场景对象更加复杂。随着几何、材质、物理建模技术以及运动捕获技

术的提高,虚拟场景中对象类型越来越多,对象属性也变得更加复杂。对象状态

可能为静态,也可能由用户控制或程序驱动而动态变化;对象表示可能采用几何

表达方式,也可能采用基于图像的表达方式,甚至两者相结合的表达方式;对象

属性除了包含几何和材质属性外,也可能包含物理属性,以及交互和智能等高级

属性。

(3)绘制真实感要求更高。随着材质获取、建模和编辑技术的提高,以及

对绘制算法的不断研究,许多应用不但要求表现模型的复杂外观效果,例如头发、

皮肤、蚀刻等效果,还要求表现复杂的全局光照明效果,例如镜面反射、透射、

阴影、衍射、色渗等效果。

(4)显示分辨率呈数量级递增。多年来,单屏显示分辨率一直局限在

1024x1024数量级上,成为制约图形显示能力的瓶颈。近年来,多屏拼接显示技

术的发展和成熟使得大范围、可伸缩、高分辨率的沉浸式显示设备,例如CAVE

和大屏幕投影墙,得到越来越广泛的应用。这类显示设备通过提高显示分辨率来

提供更加精细的绘制结果,能极大增强人们在虚拟环境中的沉浸感,提高虚实合

一的程度,同时此类技术要求能同时处理十倍甚至百倍单屏显示的数据量,从而

对图形绘制性能提出了新的要求。

上述新的应用特点加上对真实感与实时性统一的要求,最终反映在提高绘制

性能的追求上。自20世纪90年代以来,单机图形处理器(GPU)性能快速提高,

分布并行图形绘制技术呈现蓬勃发展的势头,成为提高绘制性能的两个主流方

向。分布并行图形绘制硬件系统从最初的专用并行图形绘制硬件,发展到日益成

熟的基于PC集群(PC cluster)的并行绘制系统,以及目前最新的基于图形集群

(graphics cluster)的并行绘制系统和基于网格(grid)的并行绘制系统。分

布并行图形绘制软件系统从基于绘制指令分布的并行绘制系统,发展到基于场景

数据分布的并行绘制系统,以及集成多种绘制加速算法的并行绘制系统。与通用

计算GPU(GPGPU)应用类似,由这些软硬件组成的高性能分布并行绘制系统不仅

可以用于要求极高图形处理能力的应用领域,例如大规模虚拟战场仿真、大规模

流体仿真和可视化、大型飞机CAD模型可视化、海量医学图像分析及其可视化、

时变海量高维信息可视化等,还可以用于其他需要大量计算能力的应用领域,例

如大规模数值分析、海量信号处理、海量数据库检索等。

浙江大学计算机辅助设计与图形学(CAD&CG)国家重点实验室分布并行图形

绘制研究团队近十年来,先后有12名博士生、5名硕士生(详见文后附表),在国

家973项目“虚拟现实基础理论与算法”(2002CB312105)支持下,围绕分布并行

图形绘制技术的各个方向进行深入系统的研究,取得了一批研究成果,发表了一

批高质量的学术论文。本书集中汇聚了这些研究成果是一件十分有意义的事。这

部专著是集体劳动的结晶,我作为项目负责人和研究生的导师,策划和组织了本

书的编写工作,在封面上以主编名义署名,各章作者分别在目录和相关章节后署

名,以体现知识产权保护和文责自负的精神。

分布并行图形绘制研究方向的形成和得以坚持的原因是多方面的。最初的动

机是出于“还债”心理,我自 1973 年进浙江大学无线电系计算机教研组,从原

苏联列宁格勒大学物理系核物理专业毕业,而改行从事计算机专

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